Rewolucyjny produkt w ofercie ABC ALLIED - suszka X+Y=DRYPoprzedni artykuł 

X+Y=DRY
X+Y=DRY
działanie suszki X+Y=DRY
działanie suszki X+Y=DRY
logo ABC ALLIED
logo ABC ALLIED
Rewolucyjny produkt w ofercie ABC ALLIED - suszka polimeryzująca - X+Y=DRY

Produkt ekologiczny - 0% VOC

Zastosowanie do wszystkich podłuży drukowych a w szczególności PP, PE, PCV, chromolux, kredy matowe, kalki.

Dwuskładnikowa suszka do farb. Działa na zasadzie polimeryzacji w całej masie farby.

Błyskawiczne schnięcie pozwala wyeliminować wiele problemów w procesie druku m.in. „duchy” (gas ghosting).

Proces polimeryzacji rozpoczyna się dopiero po kontakcie z wodą i farba nie zasycha w kałamarzu.

Dzięki procesowi polimeryzacji temu farba nie schnie tylko na powierzchni ale proces ten zachodzi w całej masie farby.

- szybko schnie cała warstwa farby
- idealny produkt do druku na podłożach typu chromolux, papier metalizowany, kartony powlekane matowe
- eliminuje zarysowania przy "schodzeniu" kolejnych arkuszy na wykładanie (zwłaszcza kredy matowe)
- nie ma wpływu na połysk i nie powoduje zamazań
- może być stosowana na każde podłoże drukowe
- redukuje lub eliminuje konieczność prószenia druków
- pozwala na natychmiastowe drukowanie drugiej strony
- dostosowana do każdego systemu nawilżającego
- nie powoduje matowienia farb metalicznych
- znacznie poprawia odporność na ścieranie - szczególnie ważne przy druku etykiet i opakowań na farmaceutyki
- może być stosowana do wszystkich rodzajów farb olejowych

Zastosowanie:

Pasty X i Y dokładnie ze sobą zmieszać przed dodaniem do farby. Optymalna ilość to 1-2 % X+Y w stosunku do ilości farby, ale ostateczne ilości należy ustalić doświadczalnie. Po zakończeniu pracy dokładnie umyć zespół farbowy.

Właściwości fizyko-chemiczne:

Stan: pasta Kolor: szaro/biały
VOC: 0 g/l Temp. wrzenia: >200 C
pH koncentratu: nie dotyczy Zapach: brak specyficznego
Gęstość względna: 1,00@ 20 C
Punkt zapłonu: nie dotyczy
Rozpuszczalność: rozpuszczalny w wodzie

 Produkcja: WebFabrika 1999-2024 | Kontakt | Regulamin | Polityka Prywatności