Sun Chemical na konferencji DscoopX: prezentacja powłok, primerów i lakierów do druku cyfrowegoPoprzedni artykuł 

Podczas konferencji DscoopX, jaka będzie odbywać się w Waszyngtonie w dniach 5-7 marca br., firma Sun Chemical zaprezentuje kompletną linię materiałów do uszlachetniania wydruków cyfrowych, w tym kompatybilne z ciekłymi tonerami HP powłoki, primery i lakiery. Powstały one w ścisłej współpracy z firmą Hewlett Packard. Szerokie portfolio powłok Sun Chemical znajduje również zastosowanie przy druku cyfrowym, bazującym na atramentach UV oraz wodnych. Dzięki tym rozwiązaniom użytkownicy mogą uzyskiwać liczne rodzaje uszlachetnień: wysoki połysk i lepkość, różne rodzaje matu oraz efekt satyny.

Stworzone wspoólnie przez Sun Chemical i HP powłowki, dedykowane do cyfrowych maszyn drukujących produkowanych przez drugą z firm, cechuje – jak zapewniają obaj dostawcy – wysoki poziom adhezji, właściwa odporność na zdzieranie i otarcia oraz kompatybilność z różnymi technikami wykańczania: wdrukowywania danych, klejenia czy tłoczenia folią.

Podczas konferencji DscoopX firma Sun Chemical będzie również promowała kompletną linię lakierów kryjących, pozwalających na uzyskanie efektów połysku, matu bądź satyny na wydrukach cyfrowych oraz wodne primery, znajdujące zastosowanie z atramentami do druku cyfrowego. Zastosowana do produkcji primerów receptura umożliwia wykorzystywanie ich do różnych podłoży (także porowatych), m.in. papieru i plastiku, w trybie in-line bądź off-line.

Technologia cyfrowa odgrywa coraz większą rolę w całym przemyśle poligraficznym i cieszymy się, że możemy ściśle współpracować z takim producentem jak HP. Efektem tej kooperacji są nowe, innowacyjne rozwiązania, powstałe z korzyścią dla naszych klientów – mówi Bob O’Boyle, Product Manager w firmie Sun Chemical. – Z niecierpliwością czekamy na konferencję DscoopX, podczas której zaprezentujemy, w jaki sposób nasze produkty i usługi mogą zoptymalizować działalność poligraficzną”.

Na podstawie informacji PAI PrintinPoland.com

 Produkcja: WebFabrika 1999-2024 | Kontakt | Regulamin | Polityka Prywatności