Odbyły się Poligraficzne Konfrontacje pt. "Jakość druku offsetowego a różne podłoża papierowe"Poprzedni artykuł 

"Jakość druku offsetowego a różne podłoża papierowe" - taką nazwę miały ostatnie XXVI Poligraficzne Konfrontacje zorganizowane 6 marca br. w sali konferencyjnej im. Jerzego Turowicza w siedzibie Fundacji im. Stefana Batorego w Warszawie przy ul. Sapieżyńskiej 10A. Organizatorem Poligraficznych Konfrontacji było tradycyjnie Stowarzyszenie Absolwentów Instytutu Poligrafii Politechniki Warszawskiej (SAIP PW).

Spotkanie otworzył i gości przywitał mgr inż. Andrzej Żurkiewicz, obecny prezes Stowarzyszenia. Po Nim, głos zabrał moderator obecnego spotkania dr hab. inż. Stefan Jakucewicz. Nakreślił on zakres obecnych Konfrontacji i przedstawił prelegentów, był także pierwszym referentem.

Przedstawił on referat pt. Wpływ papieru na jakość druku offsetowego. W referacie przedstawiono cechy różnicujące papiery stosowane głównie do arkuszowego drukowania offsetowego. Cechami tymi są: rodzaj powierzchni, sposób wykończenia powierzchni, chłonność powierzchniowa oraz skład surowcowy (włóknisty).

Referat ten był wprowadzeniem do zagadnień poruszanych przez kolejnych prelegentów. Nie mniej nie wszystkie przedstawione w referacie zagadnienia znalazły swe odzwierciedlenie w kolejnych referatach, ze względu na fakt ich obszerności.

Kolejnym mówcą był mgr inż. Andrzej Kunstetter. Przedstawił on referat pt. Nowe standardy w pomiarach spektrofotometrycznych. Referat dotyczył uwzględnienia w pomiarach spektrofotometrycznych krótkofalowej części widma. Stosowanie w produkcji większości papierów stosowanych do drukowania wybielaczy optycznych (jedna z cech różnicujących), powoduje konieczność uwzględnienia tego zjawiska w pomiarach spektrofotometrycznych, tym bardziej, że nowe przyrządy mają takie opcje.

Kolejną (trzecią) prezentację pt. Standardy kolorymetryczne w drukowaniu offsetowym” przedstawił dr. inż. Konrad Blachowski. Skupił się on na właściwościach odbitek offsetowych zawartych w nowej (z grudnia 2013 roku) normie ISO 12647-2. Dodatkowo omówiono pliki opublikowane przez Instytut FOGRA. Pliki te zawierają dane do charakteryzacji kolorymetrycznej procesu drukowania offsetowego na różnych podłożach – zgodne z nowa omawianą normą ISO. Prelegent przedstawił także tematykę standardowych profili ICC wraz z ich wykorzystaniem do przygotowania cyfrowych materiałów źródłowych do drukowania offsetem.

Ostatnim prelegentem był mgr inż. Jacek Hamerliński. Przedstawił on w swoim referacie pt. Nowe podejście do prognozowania naddatków w drukowaniu offsetowym na różnych rodzajach papieru - sposób (a, w zasadzie algorytm) obliczenia naddatków papieru w procesie drukowania offsetowego. Zaproponowane podejście uwzględnia możliwość liczenia naddatków dla wszystkich rodzajów arkuszowych maszyn offsetowy od najbardziej prostych do w pełni zautomatyzowanych – uwzględniając ich wyposażenie. Przestawiona metoda może być stosowana do prognozowania naddatków oraz używana w systemach kontroli jakości i zarządzania jakością.

Prezentowana w referatach tematyka wywołała ożywioną dyskusję, którą po każdym z referatów kierował moderator. W Konfrontacjach wzięło udział około 140 osób, innymi słowy sala 120 osobowa z dostawkami pękała w szwach do tego stopnia, że część słuchaczy żądnych wiedzy okupowała parapety. Świadczy to o bardzo dużym zainteresowaniu przedstawioną tematyką.

Wszystkim uczestnikom dziękujemy bardzo za udział w XXVI Poligraficznych Konfrontacjach.

Zapraszamy gorąco do udziału w XXVII Poligraficznych Konfrontacjach, które odbędą się 22 maja 2014 r., również w sali konferencyjnej w siedzibie Fundacji im. Stefana Batorego. Temat Konfrontacji: Dotacje na innowacje w poligrafii 2014-2020.

Partner naukowy Konfrontacji: Zakład Technologii Poligraficznych Instytutu Mechaniki i Poligrafii PW

Partnerzy SAIP PW: Lotos Poligrafia Sp. z o.o., Heidelberg Polska Sp. z o.o., Pre-Media Solutions, PRYZMAT, Foto-Druk, COBRPP, Polska Izba Druku

Na podstawie informacji SAIP
foto. K.Rainka/SAIP

 Produkcja: WebFabrika 1999-2024 | Kontakt | Regulamin | Polityka Prywatności