Kon­fe­ren­cja „In­no­wa­cyj­ne me­to­dy za­dru­ko­wy­wa­nia nie­chłon­nych podło­ży – in­te­li­gent­ny roz­wój po­li­gra­fii”Poprzedni artykuł 

Cen­tral­ny Ośro­dek Ba­daw­czo­-Ro­zwo­jo­wy Prze­my­słu Po­li­gra­ficz­ne­go – In­sty­tut Ba­daw­czy przy udzia­le Sek­cji Po­li­gra­fów SIMP oraz Za­kła­du Tech­no­lo­gii Po­li­gra­ficz­nych IMi­P/PW or­ga­ni­zu­je dnia 22 pa­ździer­ni­ka 2014 r. w War­sza­wie kon­fe­ren­cję na­uko­wo­-tech­nicz­ną: „In­no­wa­cyj­ne me­to­dy za­dru­ko­wy­wa­nia nie­chłon­nych podło­ży – in­te­li­gent­ny roz­wój po­li­gra­fii”.

Ko­mi­tet pro­gra­mo­wy i or­ga­ni­za­cyj­ny:
Je­rzy Hop­pe, Ta­de­usz Chęsy, Ge­or­gij Pe­triasz­wi­li, Ber­nard Jówiak.

Kon­fe­ren­cja od­będzie się w Cen­trum kon­fe­ren­cyj­nym Gol­den Flo­or w War­sza­wie, miesz­czącym się na 26 pi­ętrze gma­chu Mil­le­nium Pla­za, Ale­je Je­ro­zo­lim­skie 123a.
Otwar­cie kon­fe­ren­cji o go­dzi­nie 10.30, za­ko­ńcze­nie 13.45, lunch 14.00.

Pro­gram wy­stąpień:

  • Ste­fan Ja­ku­ce­wicz „Spe­cy­ficz­ne wła­ści­wo­ści współcze­snych ma­te­ria­łów nie­chłon­ny­ch”
  • Piotr Hinc „Wa­run­ki osi­ąga­nia naj­wy­ższej ja­ko­ści dru­ku na podło­żach trud­nych, nie­chłon­nych (wa­run­ki brze­go­we i ca­se stu­dy)”
  • Ra­fał Żu­row­ski „No­wo­cze­sne far­by do za­dru­ko­wy­wa­nia nie­chłon­nych podło­ży”
  • Ja­cek Ha­mer­li­ński, Ju­liusz Krzy­żkow­ski „Nie­ty­po­we pro­ce­sy dru­ko­wa­nia na podło­żach nie­chłon­ny­ch”
  • Ma­ciej Baur „Spe­cy­ficz­ne wa­run­ki za­dru­ko­wy­wa­nia podło­ży nie­chłon­nych w tech­ni­kach cy­fro­wy­ch”

Wa­run­ki uczest­nic­twa: zgło­sze­nie w ter­mi­nie do 30 wrze­śnia 2014 r. – licz­ba miejsc ogra­ni­czo­na oraz opła­ta 246 zł (człon­ko­wie SIMP 184,50 zł). Za­in­te­re­so­wa­nych pro­si­my o zgło­sze­nia za po­mo­cą in­ter­ne­to­we­go for­mu­la­rza, a na­stęp­nie do­ko­na­nie wpła­ty.

Do po­bra­nia: ulot­ka in­for­ma­cyj­na

Na pod­sta­wie in­for­ma­cji ZTP WIP PW

 Pro­duk­cja: We­bFa­bri­ka 1999–2025 | Kon­takt | Re­gu­la­min | Po­li­ty­ka Pry­wat­no­ści