Sharp umac­nia po­zy­cję na ryn­ku Ma­na­ged Work­flow Se­rvi­cesPoprzedni artykuł 

Sharp zy­skał sta­tus wa­żne­go gra­cza w oce­nie opu­bli­ko­wa­nej przez In­ter­na­tio­nal Da­ta Cor­po­ra­tion (IDC) 2015, do­ty­czącej Ma­na­ged Work­flow Se­rvi­ces wśród za­chod­nio­eu­ro­pej­skich firm świad­czących usłu­gi z za­kre­su dru­ku i obie­gu do­ku­men­tów. IDC zwróci­ła uwa­gę na du­że mo­żli­wo­ści tech­no­lo­gicz­ne fir­my Sharp na tym szyb­ko roz­wi­ja­jącym się ryn­ku.

W IDC za­uwa­żo­no na­szą prze­ło­mo­wą wi­zję oraz sil­ną stra­te­gię po­zwa­la­jącą na jej re­ali­za­cję, dzi­ęki po­łącze­niu mo­żli­wo­ści ofe­ro­wa­nia roz­wi­ązań Do­cu­ment i Vi­su­al So­lu­tions oraz apli­ka­cji w chmu­rze.  – po­wie­dział Ja­son Cort, Di­rec­tor Pro­duct Plan­ning and Mar­ke­ting, Sharp In­for­ma­tion Sy­stems.

Obec­nie kon­cen­tru­je­my się na re­ali­za­cji no­wej stra­te­gii i du­żo in­we­stu­je­my w lu­dzi, aby zmie­niać spo­sób, w ja­ki fir­my wy­ko­rzy­stu­ją in­for­ma­cje. Wy­różnie­nie to jest dla nas na­praw­dę war­to­ścio­we, po­nie­waż dzi­ęki nie­mu klien­ci otrzy­ma­ją in­for­ma­cję na te­mat te­go, co mo­żna osi­ągnąć dzi­ęki no­we­mu ty­po­wi usług.

W li­sto­pa­dzie 2015 r. fir­ma Sharp wpro­wa­dzi­ła na ry­nek no­wy pa­kiet usług Op­ti­mi­sed So­ftwa­re So­lu­tions, które są ofe­ro­wa­ne z urządze­nia­mi wie­lo­funk­cyj­ny­mi. By­ła to od­po­wie­dź na ro­snący po­pyt na jesz­cze lep­sze spo­so­by za­rządza­nia i kon­tro­li nad dru­kiem i do­ku­men­tem. Port­fo­lio Sharp Op­ti­mi­sed So­ftwa­re So­lu­tions ofe­ru­je opro­gra­mo­wa­nie do za­rządza­nia dru­kiem (Out­put Ma­na­ge­ment), obie­gu do­ku­men­tów (Cap­tu­re Work­flow) oraz pra­cy mo­bil­nej (Mo­bi­le Wor­king), które­go ce­lem jest opty­ma­li­za­cja pro­ce­sów fir­my, po­pra­wa wy­daj­no­ści oraz po­moc przed­si­ębior­stwom w odzy­ska­niu kon­tro­li nad do­ku­men­ta­mi i wy­ko­rzy­sta­niem urządzeń dru­ku­jących.

Na pod­sta­wie in­for­ma­cji fir­my Sharp Elec­tro­nics CEE

 Pro­duk­cja: We­bFa­bri­ka 1999–2025 | Kon­takt | Re­gu­la­min | Po­li­ty­ka Pry­wat­no­ści