Atra­men­ty Sun Che­mi­cal na FESPA Di­gi­tal 2016Poprzedni artykuł 

Je­śli chcesz po­znać ko­rzy­ści pły­nące z za­sto­so­wa­nia in­no­wa­cyj­nych atra­men­tów Sun Che­mi­cal, dzi­ęki którym mo­żesz wy­prze­dzić kon­ku­ren­cję, od­wie­dź nas na tar­gach Fe­spa 2016. Tu za­po­znasz się z na­szy­mi naj­now­szy­mi osi­ągni­ęcia­mi, de­dy­ko­wa­ny­mi na ry­nek dru­ku wiel­ko- i su­per­wiel­ko­for­ma­to­we­go.

Su­nJet – dział  Sun Che­mi­cal spe­cja­li­zu­jący się w pro­duk­cji roz­wi­ązań do dru­ku in­kje­to­we­go – nie­ustan­nie roz­wi­ja się i dąży do do­sko­na­ło­ści. Za­owo­co­wa­ło to prze­ło­mo­wym od­kry­ciem in­no­wa­cyj­nych i uni­kal­nych roz­wi­ązań, ja­ki­mi są no­we atra­men­ty do plo­te­rów wiel­ko­for­ma­to­wych.

Atra­ment jest klu­czo­wym ele­men­tem w ka­żdym pro­jek­cie. Je­śli wi­ęc je­steś wła­ści­cie­lem sprzętu OEM, in­te­gra­to­rem sys­te­mów lub pro­du­cen­tem gło­wic dru­ku­jących, od­wie­dź nas na tar­gach Fe­spa Di­gi­tal 2016. Tu spo­tkasz się z ze­spo­łem Su­nJet, by omówić Two­je po­trze­by w za­kre­sie za­sto­so­wa­nia atra­men­tów Sun Che­mi­cal.

Po­znaj na­sze naj­now­sze pro­po­zy­cje i prze­ło­mo­we tech­no­lo­gie dla sze­ro­kiej ga­my za­sto­so­wań dru­ku wiel­ko- i su­per­wiel­ko­for­ma­to­we­go. Zo­bacz, jak nie­ogra­ni­czo­ne ko­rzy­ści mo­gą pły­nąć z za­sto­so­wa­nia Aqu­acu­re ™ – no­wej kon­cep­cji pro­duk­cji atra­men­tów, wy­ko­rzy­stu­jącej uni­kal­ną che­mię, która z ko­lei łączy w so­bie tech­no­lo­gie dru­ku wod­ne­go i utrwa­la­ne­go pro­mie­nia­mi UV.

Je­że­li masz ja­kie­kol­wiek py­ta­nia, zwi­ąza­ne z dru­kiem wiel­ko­for­ma­to­wym bądź superwiel­ko­for­ma­to­wym
i sto­so­wa­ny­mi w nich atra­men­ta­mi, za­pra­sza­my do od­wie­dze­nia na­sze­go sto­iska na tar­gach FESPA Di­gi­tal: nu­mer C110, pa­wi­lon 3. 

Wi­ęcej in­for­ma­cji na te­mat na­szych tar­go­wych za­po­wie­dzi znaj­dziesz na stro­nie www.sun­che­mi­cal.co­m/fe­spa.

Na pod­sta­wie in­for­ma­cji fir­my Sun Che­mi­cal Sp. z o.o.

 Pro­duk­cja: We­bFa­bri­ka 1999–2025 | Kon­takt | Re­gu­la­min | Po­li­ty­ka Pry­wat­no­ści