Sun Che­mi­cal, tra­dy­cyj­nie już, zna­la­zł się wśród wy­staw­ców tar­gów Fe­spa, w tym ro­ku od­by­wa­jących się w Am­ster­da­mie. Fir­ma pro­mo­wa­ła tu swo­je wszech­stron­ne, sta­le roz­bu­do­wy­wa­ne port­fo­lio roz­wi­ązań skie­ro­wa­nych na ry­nek dru­ku wiel­ko­for­ma­to­we­go, w du­żej mie­rze zdo­mi­no­wa­ne przez ma­te­ria­ły do dru­ku cy­fro­we­go. Sun Che­mi­cal za­pre­zen­to­wał m.in. pe­łną ofer­tę z ro­dzi­ny Stre­am­li­ne, uwzględ­nia­jącą druk w wiel­ko­for­ma­to­wy i superwiel­ko­for­ma­to­wy w tech­ni­ce sol­wen­to­wej, wod­nej oraz UV; atra­men­ty de­dy­ko­wa­ne za­dru­ko­wy­wa­niu tek­sty­li­ów, w tym no­wy Xen­nia Ja­de oraz tech­no­lo­gię od­ga­zo­wy­wa­nia atra­men­tów – Se­pa­rel.

Jak pod­kre­śla obec­ny na tar­gach Krzysz­tof Ostrow­ski, od­po­wie­dzial­ny w pol­skim od­dzia­le Sun Che­mi­cal za ry­nek dru­ku cy­fro­we­go, Fe­spa sta­ła się jed­nak przede wszyst­kim miej­scem spo­tkań z klien­ta­mi fir­my (głów­nie z Eu­ro­py) oraz part­ne­ra­mi bi­zne­so­wy­mi.

„Te­go­rocz­na edy­cja tar­gów Fe­spa od­by­wa­ła się nie­co w cie­niu naj­wa­żniej­sze­go wy­da­rze­nia bra­nżo­we­go, ja­kie zbli­ża się wiel­ki­mi kro­ka­mi tj. wy­sta­wy dru­pa, co od­bi­ło się na fre­kwen­cji za­rów­no wśród wy­staw­ców, jak i zwie­dza­jących – mówi Krzysz­tof Ostrow­ski. – Mi­mo to z na­sze­go punk­tu wi­dze­nia by­ła to zna­ko­mi­ta oka­zja do licz­nych spo­tkań, nie­kie­dy w bar­dzo cie­ka­wych, mi­ędzy­na­ro­do­wych kon­fi­gu­ra­cjach, uwzględ­nia­jących np. przed­sta­wi­cie­li Sun Che­mi­cal z różnych kon­ty­nen­tów i klien­ta z Pol­ski, wspól­nie dys­ku­tu­jących na te­mat da­ne­go pro­jek­tu czy roz­wi­ąza­nia. To naj­wi­ęk­sza war­to­ść te­go ty­pu wy­da­rzeń dla nas ja­ko pro­du­cen­ta i do­staw­cy ma­te­ria­łów eks­plo­ata­cyj­nych. Oczy­wi­ście nie za­bra­kło też pre­mier w na­szej ofer­cie, uwzględ­nia­jącej wszyst­kie seg­men­ty dru­ku wiel­ko- i su­per­wiel­ko­for­ma­to­we­go”.

Stre­am­li­ne – spraw­dzo­ne i no­we roz­wi­ąza­nia

Jak pod­kre­śla Krzysz­tof Ostrow­ski, nie­słab­nącą po­pu­lar­no­ścią cie­szy się ro­dzi­na atra­men­tów Stre­am­li­ne, re­cep­tu­ro­wa­nych i two­rzo­nych przez Sun Che­mi­cal nie tyl­ko z my­ślą o kon­kret­nych tech­ni­kach dru­ko­wa­nia, ale wręcz – se­riach urządzeń czy mo­de­lach gło­wic. „Na­sza lo­kal­na pre­mie­ra se­rii ATR ER mia­ła miej­sce pod­czas tar­gów Re­ma­Days War­saw na sto­isku na­sze­go part­ne­ra – fir­my Atler. Fe­spa by­ła wi­ęc miej­scem ich pre­zen­ta­cji w ska­li glo­bal­nej. Jest to se­ria atra­men­tów do no­wych plo­te­rów Ro­land, z których je­den rów­nież miał wó­wczas swo­ją pre­mie­rę”.

Z my­ślą o tech­ni­ce in­kjet Sun Che­mi­cal po­sia­da trzy se­rie atra­men­tów Stre­am­li­ne: do dru­ku UV oraz sol­wen­to­wych do ma­szyn su­per­wiel­ko­for­ma­to­wych oraz do urządzeń wiel­ko­for­ma­to­wych. „Te pierw­sze zdo­by­wa­ją co­raz wi­ęk­szą po­pu­lar­no­ść z uwa­gi na ro­snące udzia­ły ryn­ko­we tech­ni­ki in­kjet UV i na­sze part­ner­stwa z wie­lo­ma pro­du­cen­ta­mi urządzeń na niej ba­zu­jących – mówi Krzysz­tof Ostrow­ski. – Seg­ment wi­de for­mat re­pre­zen­to­wa­ny jest przez atra­men­ty do dru­ku eko- (z cer­ty­fi­ka­tem GREENGUARD Gold ) i mid­sol­wen­to­we­go ta­kie jak wspo­mnia­ne wcze­śniej ATR ER do no­wych ma­szyn Ro­land. Trze­cia gru­pa to roz­wi­ąza­nia do ma­szyn su­per­wiel­ko­for­ma­to­wych, np. nie­daw­no wpro­wa­dzo­ny Stre­am­li­ne SGR do ma­szyn z gło­wi­ca­mi Ri­coh Gen 5, który rów­nież lo­kal­nie pro­mo­wa­li­śmy na Re­ma­Days War­sa­w”.

Krzysz­tof Ostrow­ski wska­zu­je też na ro­snącą po­pu­lar­no­ść atra­men­tów wod­nych: „To efekt m.in. co­raz bar­dziej re­stryk­cyj­nych prze­pi­sów śro­do­wi­sko­wych – mówi. – Ja­ko fir­ma przy­wi­ązu­jąca do kwe­stii „e­ko” bar­dzo du­żą wa­gę wy­cho­dzi­my tym tren­dom na­prze­ciw, wpro­wa­dza­jąc ko­lej­ne, opa­ten­to­wa­ne far­by wod­ne z se­rii Stre­am­li­ne prze­zna­czo­ne do za­dru­ko­wy­wa­nia podło­ży pa­pie­ro­wych, pro­duk­cji pla­ka­tów, de­ko­rów i ta­pet ścien­nych. Są one kom­pa­ty­bil­ne z gło­wi­ca­mi Ky­oce­ra i Ri­coh Gen 5, za­pew­nia­jąc zna­czące oszczęd­no­ści w zu­ży­ciu ma­te­ria­łów eks­plo­ata­cyj­nych, szyb­sze schni­ęcie, gwa­ran­tu­jąc jed­no­cze­śnie lep­sze wy­ko­ńcze­nie za­dru­ko­wa­nej po­wierzch­ni, wy­so­ką ży­wot­no­ść re­pro­du­ko­wa­nych barw oraz re­duk­cję zu­ży­cia ener­gii”.

Druk na tek­sty­liach – mo­da i co­dzien­ne po­trze­by

„Ro­zwi­ąza­nia wy­ko­rzy­stu­jące ma­te­ria­ły tek­styl­ne, z my­ślą o różnych bra­nżach (Sign & Di­splay, odzie­ży spor­to­wej, mo­do­wej czy po pro­stu do użyt­ku do­mo­we­go) z ro­ku na rok są co­raz bar­dziej wi­docz­ne na tar­gach Fe­spa – mówi Krzysz­tof Ostrow­ski. – Na­sza ofer­ta w tym ob­sza­rze rów­nież jest sta­le roz­bu­do­wy­wa­na. W tym ro­ku pod­czas Fe­spy mie­li­śmy oka­zję po­ka­zać na­szą ab­so­lut­ną no­wo­ść – se­rię atra­men­tów Xen­nia Ja­de o dru­ku ty­pu DTF (di­rec­t-to­-film). W jej skład wcho­dzą far­by CMYK i do­dat­ko­wa bia­ła oraz nie­zbęd­ny do ich apli­ko­wa­nia ba­zu­jący na ży­wi­cy pro­szek. Ze­staw ten za­pew­nia wy­so­ką ja­ko­ść dru­ku i nie­za­wod­no­ść ca­łe­go pro­ce­su dru­ko­wa­nia”.

Na sto­isku nie za­bra­kło też farb sub­li­ma­cyj­nych do dru­ku trans­fe­ro­we­go, m.in. Elva­Jet Opal SB do gło­wic Ep­son oraz hy­bry­do­wej Elva­Jet To­paz SC do gło­wic Ky­oce­ra. „Ta dru­ga – pod­kre­śla Krzysz­tof Ostrow­ski – za­pew­nia tak sa­mo do­bre re­zul­ta­ty za­rów­no przy apli­ka­cji bez­po­śred­nio na tka­ni­nę, jak i przy za­sto­so­wa­niu pa­pie­rów trans­fe­ro­wy­ch”.

Ofer­tę tar­go­wą Sun Che­mi­cal w za­kre­sie farb sub­li­ma­cyj­nych uzu­pe­łnia­ła se­ria Elva­Jet SR 342, prze­zna­czo­na do gło­wic wy­ma­ga­jących farb o wy­ższej lep­ko­ści. Na sto­isku Sun Che­mi­cal nie za­bra­kło też farb pig­men­to­wych, re­ak­tyw­nych i kwa­so­wych, re­cep­tu­ro­wa­nych z my­ślą o osi­ągni­ęciu jak naj­lep­szych efek­tów w dru­ku i fi­nal­nych apli­ka­cjach.

Za­sto­so­wa­nia spe­cjal­ne, Su­nJet, si­to­druk, tam­pon­druk

Na sto­isku Sun Che­mi­cal swo­je miej­sce zna­la­zły ta­kże po­zo­sta­łe dzia­ły fir­my ofe­ru­jące roz­wi­ąza­nia do dru­ku wiel­ko­for­ma­to­we­go. Dział Advan­ced Ma­te­rials pro­mo­wał tech­no­lo­gię SEPAREL, umo­żli­wia­jącą – dzi­ęki za­sto­so­wa­niu mem­bran wy­ko­na­nych z włókien ka­na­li­ko­wych – usu­wa­nie roz­pusz­czo­nych ga­zów, po­wsta­łych pod­czas apli­ka­cji atra­men­tów w pro­ce­sie dru­ku in­kje­to­we­go. Jak po­da­je pro­du­cent, za­pew­nia ona bez­pro­ble­mo­we dru­ko­wa­nie, ob­ni­że­nie ilo­ści od­pa­dów (za­rów­no w kon­te­kście podło­ży, su­row­ców jak i sa­mych atra­men­tów), po­nad­to skra­ca czas nie­zbęd­ny na czysz­cze­nie ma­szy­ny oraz po­zwa­la na uzy­ska­nie ni­ższych kosz­tów zwi­ąza­nych z tym eta­pem. Ro­zwi­ąza­nie to de­dy­ko­wa­ne jest różne­go ro­dza­ju apli­ka­cjom, uwzględ­nia­jącym dru­ko­wa­nie atra­men­ta­mi wod­ny­mi, sol­wen­to­wy­mi oraz UV.

Su­nJet – glo­bal­ny brand Sun Che­mi­cal i DIC Cor­po­ra­tion, de­dy­ko­wa­ny tech­no­lo­gii in­kje­to­wej, za­pre­zen­to­wał swo­je naj­now­sze osi­ągni­ęcia w ob­sza­rze roz­wi­ązań do dru­ku in­kje­to­we­go, rów­nież tych zre­ali­zo­wa­nych wspól­nie z part­ne­ra­mi OEM, in­te­gra­to­ra­mi sys­te­mo­wy­mi oraz pro­du­cen­ta­mi gło­wic dru­kujących. Ofer­ta Su­nJet obej­mu­je różne sek­to­ry ryn­ku i fi­nal­ne apli­ka­cje, m.in. z ob­sza­ru ko­mu­ni­ka­cji gra­ficz­nej, de­ko­ro­wa­nia, tek­sty­li­ów, za­sto­so­wań prze­my­sło­wych oraz opa­ko­wań.
Na sto­isku zna­la­zły się też licz­ne roz­wi­ąza­nia Sun Che­mi­cal do si­to­dru­ku kon­wen­cjo­nal­ne­go i UV, jak też far­by tam­pon­dru­ko­we, de­dy­ko­wa­ne za­sto­so­wa­niom za­rów­no prze­my­sło­wym jak i gra­ficz­nym w wie­lu bra­nżach: mo­to­ry­za­cyj­nej, lot­ni­czej, elek­tro­ni­ki dru­ko­wa­nej, opa­ko­wań i di­sple­jów, z uwzględ­nie­niem różnych podło­ży: od pa­pie­ru na two­rzy­wach sztucz­nych i szkle sko­ńczyw­szy.

„Dzi­ęku­je­my wszyst­kim, którzy do­tar­li do Am­ster­da­mu i od­wie­dzi­li na­sze sto­isko. Ma­my na­dzie­ję, że ka­żdy z na­szych go­ści zna­la­zł tu coś dla sie­bie. Wszyst­kich za­in­te­re­so­wa­nych ofer­tą Sun Che­mi­cal dla dru­ku wiel­ko­for­ma­to­we­go za­pra­sza­my do kon­tak­tu z pol­skim od­dzia­łem i z na­szy­mi au­to­ry­zo­wa­ny­mi dys­try­bu­to­ra­mi, dzia­ła­jący­mi na ob­sza­rze ca­łe­go kra­ju” – pod­su­mo­wu­je Krzysz­tof Ostrow­ski.

Na pod­sta­wie in­for­ma­cji Po­li­gra­ficz­nej Agen­cji In­for­ma­cyj­nej

• Prze­czy­taj też: Ag­fa na tar­gach Fe­spa 2024: trzy świa­to­we pre­mie­ry, re­bran­ding port­fo­lio ma­szyn in­kje­to­wych
• Prze­czy­taj też: King­fi­sher La­bels in­we­stu­je w cy­fro­wą ma­szy­nę hy­bry­do­wą Mark An­dy Di­gi­tal Pro 3
• Prze­czy­taj też: HP usta­na­wia no­wy stan­dard w bra­nży dru­ku cy­fro­we­go
• Prze­czy­taj też: Sun Che­mi­cal o zrów­no­wa­żo­nym roz­wo­ju na Kon­fe­ren­cji Flek­so­gra­fów
• Prze­czy­taj też: Dru­k24h z no­wą wy­so­ko­wy­daj­ną ma­szy­ną cy­fro­wą Fu­ji­film Re­vo­ria Press PC1120
• Prze­czy­taj też: Ko­enig & Bau­er na Kon­fe­ren­cji Flek­so­gra­fów
• Prze­czy­taj też: Sto­ra En­so part­ne­rem fir­my Le­sjöfors w za­kre­sie ob­ni­że­nia emi­sji CO2
• Prze­czy­taj też: Far­by Sun Che­mi­cal Su­nStra­to Aqu­aLam Ge­n2 w dru­kar­ni Stra­tum Pla­sti­ka Me­so­je­dec
• Prze­czy­taj też: Po­ka­zy ma­szy­ny Sch­medt Präzi­Ed­ge w Avar­graf
• Prze­czy­taj też: Prze­sła­nie Sto­ra En­so z oka­zji Świa­to­we­go Dnia Dzi­kiej Przy­ro­dy